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193nm光刻膠折射率與消光系數(shù)五點實測：n=1.8167、k=0.5090
2026-8-25
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在193nm浸沒式光刻（ArFimmersionlithography）工藝中，光刻膠（photoresist，PR）在曝光波長處的折射率n（refractiveindex）與消光系數(shù)k（extinctioncoefficient）是影響光刻窗口與套刻精度的關鍵光學參數(shù)。針對這一測量需求，采用HORIBAUVISELPlus光譜橢偏儀對8英寸晶圓上的光刻膠薄膜進行五點測量，獲得193nm處的n、k實測值，供光刻工藝建模與批次監(jiān)控參考。一、測量需求背景ArF浸沒式光刻的曝光波長... -
HORIBA UVISEL Plus全光譜橢偏儀的現(xiàn)代薄膜測量解決方案
2026-8-25
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HORIBAUVISELPlus全光譜橢偏儀的現(xiàn)代薄膜測量解決方案在半導體、平板顯示、光伏和先進材料等制造領域，薄膜的厚度與光學性質直接決定了器件的電學性能與最終良率。從幾埃（?）的原子層到數(shù)十微米的功能涂層，每一層薄膜的微小偏差都可能導致整批產品的失效。橢圓偏振技術（Ellipsometry）憑借其非接觸、無損、高靈敏度的特性，已發(fā)展成為薄膜表征領域最核心的光學計量技術之一。它通過測量線偏振光經薄膜樣品反射后偏振狀態(tài)的變化，結合光學模型擬合，精確獲取薄膜的厚度、折射率（n）...
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KLA臺階儀P-7：全自動高精度薄膜表面形貌與應力檢測方案
2026-8-25
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一、臺階儀的技術演進與KLA的行業(yè)優(yōu)勢臺階儀（StylusProfiler）的核心原理可追溯至20世紀初的機械觸針式表面粗糙度測量儀。早期的觸針式測量依賴機械杠桿與指針讀數(shù)，測量精度受限于機械放大倍數(shù)與人為讀數(shù)誤差，僅能用于宏觀粗糙度的粗略評估。1940年代至1960年代，隨著電子技術的發(fā)展，觸針式輪廓儀開始引入差動變壓器式傳感器，將機械位移轉化為電信號，測量分辨率突破微米級門檻。這一階段的設備已在實驗室獲得應用，但仍受限于較慢的掃描速度和有限的數(shù)據采樣能力。1970年代末至...
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醫(yī)療器械涂層厚度測量 - 藥物支架、親水涂層與 Parylene
2026-8-24
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醫(yī)療器械涂層厚度測量-藥物支架、親水涂層與Parylene醫(yī)療器械上的功能涂層越來越多。藥物洗脫支架靠涂層控制藥物釋放節(jié)奏，導管導絲靠親水涂層降低插入摩擦，植入物靠Parylene涂層做絕緣和防護。這些涂層有的只有幾百納米，有的是幾微米，但厚度和均勻性直接關系器械的安全性和有效性。這篇文章從三類典型器械講起，說清醫(yī)療涂層為什么難測、用什么方法測、操作時要注意什么。目錄1.醫(yī)療涂層測厚是什么，怎么測2.三類器械與測量要點3.為什么醫(yī)療涂層難測4.常用測量方法對比5.實操要點與注...
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光柵量測方法對比與光學法適用邊界說明
2026-8-24
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光柵量測方法對比與光學法適用邊界說明測表面浮雕光柵沒有一臺設備通吃。有人在亞波長結構上硬上白光干涉，測出來槽深漂移大，返工幾次才意識到方法不對。優(yōu)尼康科技（UnicornTechnology，KLAFilmetrics中國區(qū)總代理）把常用五類方法的適用范圍攤開講，先看清樣品尺度，再選設備，能省掉不少試錯。目錄引言：方法選錯，樣品和時間都浪費光柵量測要看哪些指標五種方法怎么分工邊界表：什么時候該換方法實測踩坑與選型決策樹具體設備怎么挑延伸閱讀1.引言：方法選錯，樣品和時間都浪費...
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衍射光波導光柵槽深占空比側壁角測量方法
2026-8-21
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衍射光波導靠表面浮雕光柵（SRG）把光從側面耦合進人眼。槽深、占空比、側壁角這三個形貌參數(shù)直接決定耦入效率和出瞳均勻性，批量生產時哪怕幾納米的漂移都會被放大成亮度不均。優(yōu)尼康科技（UnicornTechnology，KLAFilmetrics中國區(qū)總代理）整理這套形貌參數(shù)的量測分工與適用邊界，供產線工藝和量測工程師參考。目錄引言：光柵三參數(shù)為什么卡住AR良率SRG怎么成型，三參數(shù)怎樣影響耦入槽深、占空比、側壁角怎么測白光干涉、共聚焦、橢偏三種光學法對比實測邊界：周期和深寬比決...
