-
光刻膠顯影臺階高度檢測：P-7臺階儀方案
2026-8-28
111
需求背景光刻膠曝光顯影后，表面會形成帶圖形的臺階結構，其臺階高度直接反映曝光劑量、顯影時間、烘烤溫度三樣參數是否匹配。臺階一旦測不準，后道刻蝕、離子注入等工序都可能跟著跑偏。因此顯影后臺階高度是光刻工藝調試中僅次于線寬的關鍵指標，需要一臺分辨率高、掃描范圍大、又不會劃傷軟膠的臺階儀來測量。儀器參數KLAP-7桌面式觸針臺階儀，主要參數如下表。項目KLAP-7臺階儀掃描長度最長可達100mm以上垂直分辨率?級（0.1nm）觸針壓力可調至1mg量級，適合軟膠樣品臺200mm晶圓加...
-
Filmetrics 光學膜厚測量儀分光干涉測量原理
2026-8-28
91
一、核心基礎原理：薄膜光干涉Filmetrics光學膜厚測量儀核心依托薄膜分光束干涉效應，當寬光譜白光照射樣品薄膜表面時，會產生兩束關鍵反射光：薄膜上表面(空氣-膜層界面)反射光；薄膜下表面(膜層-基底界面)反射光。兩束反射光波長相同、存在光程差，相遇后發生相干干涉，不同波長的光會形成強弱交替的干涉光譜曲線，Filmetrics設備通過采集這條光譜完成膜厚計算。二、分光干涉完整工作流程寬光譜光源發射內置氘鹵復合白光光源，輸出200–1100nm連續寬波段光線，經光纖導入探頭垂...
-
多層膜厚度測量：反射光譜解譜方法詳解
2026-8-28
97
多層膜厚度測量：反射光譜解譜方法詳解一束白光打到多層薄膜上，反射光譜里同時疊加了所有層的干涉信息。問題是，怎么從這條光譜曲線里，把每一層各自的厚度拆出來？這事比表面看起來難得多——單層膜只要擬合一個厚度參數，多層膜的自由參數隨層數暴增，但反射光譜中真正獨立的信息量并沒有同步增長。這篇文章不講花架子，我們直接進入傳輸矩陣法（TMM）怎么算反射光譜、色散模型怎么壓參數、擬合算法怎么從光譜里撈厚度，以及最重要的一件事：什么情況下你解出來的結果可以信，什么情況下只是數學上看著漂亮。目...
-
光學膜厚儀操作規范與使用細節全解析
2026-8-28
94
光學膜厚儀操作規范與使用細節全解析在現代化生產、品質管控與研發創新中，光學膜厚儀（即膜厚測量儀或簡稱膜厚儀）已成為精密檢測工具。作為優尼康科技代理的Filmetrics系列膜厚儀，憑借其光學干涉技術，在半導體晶圓、光學鍍膜、工業涂裝及材料表面處理等領域廣泛應用。為了幫助每一位用戶充分發揮設備性能，延長儀器使用壽命，我們整理了以下系統化的操作規范與細節要點，建議結合現場實際納入日常作業指導書。一、檢測前的準備——樣品表面與狀態檢查任何測量開始前，請務必檢查被測物體表面狀態。光學...
-
光刻膠樹脂膜厚551nm實測：F20反射式膜厚儀參數與應用
2026-8-27
124
光刻膠（Photoresist）原料樹脂的膜厚與折射率直接決定旋涂工藝的圖形精度與曝光劑量。同一配方、不同批次樹脂在相同旋涂條件下的膜厚偏差可達5%~15%，偏差經曝光、顯影環節放大后會導致圖形線寬偏移或關鍵尺寸（CD）失控。因此，在光刻膠上游的樹脂合成廠、成品廠與晶圓廠來料檢驗環節，膜厚與折射率均需進行無損質檢。一、儀器技術參數FilmetricsF20為反射式膜厚儀，采用寬光譜白光垂直入射樣品表面、采集反射率曲線，結合色散模型反演膜厚與光學常數。主要技術參數見表1。圖1F...
-
193nm光刻膠折射率與消光系數五點實測：n=1.8167、k=0.5090
2026-8-25
111
在193nm浸沒式光刻（ArFimmersionlithography）工藝中，光刻膠（photoresist，PR）在曝光波長處的折射率n（refractiveindex）與消光系數k（extinctioncoefficient）是影響光刻窗口與套刻精度的關鍵光學參數。針對這一測量需求，采用HORIBAUVISELPlus光譜橢偏儀對8英寸晶圓上的光刻膠薄膜進行五點測量，獲得193nm處的n、k實測值，供光刻工藝建模與批次監控參考。一、測量需求背景ArF浸沒式光刻的曝光波長...
